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EVG301-超声波晶圆清洗机
EVG301-超声波晶圆清洗机

  EVG301 超声波晶圆清洗机

  基本功能:研发型单晶圆清洗系统


一、简介

  EVG301半自动单晶圆清洁系统采用一个清洁工作台,使用标准DI水冲洗以及超声波,刷子和稀释化学品清洁晶圆作为额外的清洁选项。通过手动加载和预对准,EVG301 超声波晶圆清洗机是一种多功能研发型系统,可实现灵活的清洁程序,支持300 mm晶圆。EVG301系统可与EVG的晶圆对准和键合系统结合使用,在晶圆键合之前清除任何颗粒。旋转夹头可用于不同的晶圆和基片尺寸,以便轻松配置不同的工艺。

二、特征

  使用1 MHz兆声波喷嘴或区域传感器进行高效清洁(可选)

  刷子擦洗,用于单面清洁(可选)

  用于晶圆清洗的稀释化学品

  防止从背面到正面的交叉污染

  完全由软件控制清洁过程

三、可选项

  带IR检测的预键合台

  用于非SEMI标准基片的工具

四、参数

  1、晶圆尺寸:200mm,100-300mm

  2、清洗系统:

  打开腔室,旋转器和清洁臂

  3、腔室:由PP或PFA制成(可选)

  4、清洁介质:去离子水(标准),其他清洁介质(可选)

  5、旋转夹头:真空夹头(标准)和边缘处理夹头(可选)由金属离子和清洁材料制成

  旋转:高达3000 rpm(5秒内)

  6、超声波喷嘴:

  频率:1 MHz(3 MHz选项)

  输出功率:30 - 60 W

  去离子水流量:高达1.5升/分钟

  有效的清洁区域:Ø4.0mm

  材质:PTFE