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Thetametrisis FR-pRo膜厚仪 膜厚测量仪

Thetametrisis FR-pRo膜厚仪 膜厚测量仪

1. 产品概述

FR-pRo膜厚仪: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚仪 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层。

FR-pRo膜厚仪 是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用。

比如:

吸收率/透射率/反射率测量,薄膜特性在温度和环境控制下甚至在液体环境下的表征等等…

2. 膜厚仪应用

  • 大学&研究实验室
  • 半导体行业
  • 高分子聚合物&阻抗表征
  • 电介质特性表征
  • 生物医学
  • 硬涂层,阳极氧化,金属零件加工
  • 光学镀膜
  • 非金属薄膜等等


FR-pRo膜厚仪可由用户按需选择装配模块,和心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块。

此外,还有各种各种配件,比如:

  • 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架;
  • 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具;
  • 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒;
  • 漫反射和全反射积分球。

通过不同模块组合,蕞终的配置可以满足任何终端用户的需求。

3. 膜厚仪规格(Specificatins 

Model

UV/Vis

UV/NIR -EXT

UV/NIR-HR

D UV/NIR

VIS/NIR

D Vis/NIR

NIR

光谱范围  (nm)

200 – 850

200 –1020

200-1100

200 – 1700

370 –1020

370 – 1700

900 – 1700

像素

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

厚度范围

1nm – 80um

3nm – 80um

1nm – 120um

1nm – 250um

12nm – 100um

12nm – 250um

50nm – 250um

测量n*k 蕞小范围

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

准确度*,**

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

2nm or 0.2%

3nm or 0.4%

精度*,**

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.1nm

稳定性*,**

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.15nm

光源

氘灯 & 钨卤素灯(内置)

钨卤素灯(内置)

光斑 (直径)

350um (更小光斑可根据要求选配)

材料数据库

> 600 种不同材料

4. 膜厚仪配件(Accessries) 

电脑

19 英寸屏幕的笔记本电脑/触摸屏电脑

聚焦模块

光学聚焦模块安装在反射探头上,光斑尺寸<100um

薄膜/比色皿容器

在标准器皿中对薄膜或液体的透射率测量

接触式探头

用于涂层厚度测量和光学测量的配件,适用于弯曲表面和曲面样品

显微镜

用于高横向分辨率的反射率及厚度显微测量

Scanner  (motorized)

带有圆晶卡盘的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自动化样品台可选,Polar(R-Θ)样品台支持反射率测量,Cartesian(X-Y)样品台支持反射率和透射率测量

积分球

用于表征涂层和表面的镜面反射和漫反射

手动 X-Y 样品台

测量面积为 100mmx100mm 200mmx200mm x - y 手动平台

加热模块

嵌入FR-tool 中,范围由室温~200oC,通过FR-Monitor 运行可编程温控器(0.1 oC 精度).

液体模块

聚四氟乙烯容器,用于通过石英光学窗口测量在液体中的样品。样品夹具,

用于将样品插入可处理 30mmx30mm 样品的液体中

流通池

液体中吸光率、微量荧光测量


5. 膜厚仪工作原理

白光反射光谱(WLRS)是测量垂直于样品表面的某一波段的入射光,在经多层或单层薄膜反射后,经界面干涉产生的反射光谱可确定单层或多层薄膜(透明,半透明或全反射衬底)的厚度及 N*K 光学常数。

* 规格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度测量范围即代裱光谱范围,是基于在高反射衬底折射率为 1.5 的单层膜测量厚度。

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