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EVG770 分步重复纳米压印光刻机

EVG770 分步重复纳米压印光刻机

1. 简介

我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。结合金刚石车削或直接写入方法,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVGSmartNIL工艺所需的母版。

2. 主要应用

主要使用连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作(例如:微镜头制作)。

3. 特色

EVG770的主要功能包括精确的对准功能,全缅的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。

4. 参数特征

1)高效的晶圆级光学微透镜主制造,直至SmartNIL的纳米结构®

2)简单实施不同类型的主机

3)可变抗蚀剂分配模式

4)分配,压印和脱模过程中的实时图像

5)用于压印和脱模的原位力控制

6)可选的光学楔形误差补偿

7)可选的自动盒带间处理

5. EVG770技术数据

1)晶圆直径(基板尺寸):100300毫米

2)解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

3)支持的工艺:软UV-NIL纳米压印

4)曝光源:大功率LEDi线)> 100 mW /cm²

5)对准:顶面显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

6)弟一个印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

7)有效印记区域:长达50 x 50毫米

8)自动分离:支持

9)预处理功能:涂层:液滴分配(可选)

6. 纳米压印工艺结果

晶圆级微透镜制造


图1  微镜头

纳米压印结果(100纳米分辨率)

图2  纳米压印结果(100纳米分辨率)

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